Número estándar: YS/T 14-2015(YS/T14-2015)
Chino:异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法
Español:Medición del espesor de capas heterogéneas epitaxiales y policristalinas de silicio
Fecha de entrada en vigor:2015-10-01
Alcance estándar:Esta norma se aplica para medir el espesor de la capa epitaxial heterogénea y la capa policristalina de silicio con el espesor de la capa de interfaz entre el sustrato y la capa de deposición inferior a 100 nm, y el rango de medición es de 1 μm a 100 μm.
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